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VNX55-HH 高硬度CEDI (连续电去离子) 膜堆

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更新: 2018-11-14
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公司基本资料信息
 

VNX55-HH 高硬度CEDI (连续电去离子) 膜堆

Ionpure® VNX55-HH大流量膜堆采用经过验证的连续电去离子 (CEDI) 技术生产高纯水
每个VNX55-HH膜堆的名义产水流量为10 m3/h (44 gpm)。通过在系统中并联多个VNX 55-HH膜堆可以使单套系统出力达到甚至超过 228 m3/h (1,000 gpm) 。



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采用Through-port垫片密封,可保证无泄漏,VNX55-HH 膜堆专为高硬度进qi水而优化。与其他的型号不同,它不需要使用酸/碱、中和系统或树脂罐。实际上,它的运行无需使用化学药剂,并可以达到90%的回收率。其他的规格参数包括:

硅 (SiO2) 去除率 >90%
​钠离子(Na)去除率 >99.5%
​氯离子去除率 >99.8%

* 实际性能可以用IONPURE的IP-PRO设计软件确定



流量

回收率 ​80% ​90%
最小流量 gpm (m3/h) ​​20 (4.5) ​23 (5.2)
​​名义流量 gpm (m3/h) ​44 (10.0) ​50 (11.4)
​​最大留恋 gpm (m3/h)​ ​56 (12.6)  ​​62 (14.1)

 

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